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北京维意真空技术应用有限责任公司

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展位号: BIOON-251a278434c5

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光纤真空馈通法兰

光纤真空馈通法兰设计参数:光纤类型:阶跃折射率,多模芯径尺寸: 200µm,400µm,600µm波长: 标准 OH(UV 至可见光):190nm ~1250nm /低OH(可见光至 IR):300nm ~ 2400nm数值孔径 (NA): 0.22连接器选项:

产品货号:W-GX11 产地:中国 价格:询价 点击数:17 商家询价

源瓶

维意真空ALD/MO源瓶 *** 源瓶(起泡器)用于固态、液态及气态超纯物料类的封装,涉及微正压、 常压、中低压的危险化学品,所以对源瓶的安全性和洁净度提出严苛的要 求。 *** 源瓶特点: 1、所有管件采用316L不锈钢,内部经400目机械抛光和电化学抛光,Ra≦0.25微米; 2、阀门有美

产品货号:wayes-YP 产地:北京 价格:询价 点击数:3127 商家询价

真空腔室

北京维意真空技术应用有限责任公司有全自动数控加工中心、数控车床等设备,主要产品:非标铝合金真空腔体,镀膜机腔体,不锈钢真空腔体加工,真空炉体,PVD系列镀膜机腔体,腔体配套真空管道等系列真空产品,可加工真空腔体连续线,专业定做非标高真空,超高真空腔体。我公司采用三维建模软件,按照实际比例建立3d仿真

产品货号:wayesvac 产地:北京 价格:询价 点击数:3474 商家询价

热蒸发镀膜机

EV-246小型电阻蒸发镀膜机真空腔室:1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质,氩弧焊接,上开盖和前开门结构;真空系统:机械泵+分子泵(进口和国产可选);极限真空:优于8✕10-5Pa(设备空载抽真空24h);真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min;基片台:可拆卸式,尺寸60✕60mm,旋转

产品货号:wayes-ZF 产地:北京 价格:询价 点击数:3862 商家询价

磁控溅射镀膜机

MS-246小型多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室:1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质,氩弧焊接,上开盖和前开门结构;真空系统:机械泵+分子泵(进口和国产可选);极限真空:优于8✕10-5Pa(设备空载抽真空24h);真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min;升降基片台:尺寸直径100mm,高度

产品货号:PECVD 产地:北京 价格:询价 点击数:4267 商家询价

高低温真空探针台

小型高低温真空探针台温度范围:-190~400℃;温度稳定性:±0.1℃;升降温速度:0~30℃/min(匀速);样品台:20✕20mm银制,反射光路;液氮制冷电加热,搭配4个磁吸探针座、4个固定式探针座,配BNC接口,真空/气氛腔室,物镜距离10mm,支持定制15611171559。

产品货号:wayes-DHL 产地:北京 价格:询价 点击数:3697 商家询价

真空吸附卡盘

真空吸附卡盘 • 不锈钢卡盘台尺寸4",平整度5μm,带3个真空吸附孔 • 不锈钢卡盘台尺寸6",平整度5μm,带4个真空吸附孔 • 静音无油气泵,7 升 / 分钟,可连续工作 恒温真空吸附卡盘 • 铝合金盘台尺寸4",平整度5μm。 &bu

产品货号:wayes-KP4 产地:北京 价格:询价 点击数:3294 商家询价

ALD原子层沉积镀膜设备

一、设备概述: T-ALD原子层沉积系统是专门为科研和工业小型化量产用户而设计的多片沉积系统。该系统电气完全符合CE标准,广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜、太阳能电池等领域。 二、产品优势: 先进的软件控制系统:系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体。 三

产品货号:wayesvac 产地:北京 价格:询价 点击数:8577 商家询价

PECVD设备

*** PE-CVD结构特点介绍: 1、PECVD系列真空管式高温烧结炉如图所示,集控制系统与炉膛为一体; 2、炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,采用进口高温合金电阻丝为加热元件; 3、高纯石英管横穿于炉体中间作为的炉膛,炉管两端用不锈钢法兰密封,工件式样在管中加热,加热元件 与炉管平行,均匀地分

产品货号:wayes-PECVD 产地:北京 价格:询价 点击数:4247 商家询价