圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合清洗、等离子清除浮渣、刻胶、去胶 、表面处理 、Etching、故障分析应用 、材料改性 )
台式反应离子刻蚀系统,台式反应离子刻蚀(RIE)系统,圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。
台式数控超声波清洗器
产品型号 SD2800H超声功率(W) 600加热功率(W) 600容量(L) 22.5槽内尺寸(mm)L×W×H 500×300×150外形尺寸(mm)L×W×H 570×330×330超声频率(KHz) 40选配 降音盖、排水 网架、降音盖、排水价格(元) 10500(元) 11000(元)
舒美牌KQ3200V台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
清洗消毒机/实验室洗瓶机/进样瓶清洗机
永合创信全自动实验室洗瓶机,可360度全方位多角度对物品进行冲洗、消毒、干燥。通过微电脑控制技术,以PLC系统控制温度、时间并配以专用的清洗剂、中和剂等对各种实验室玻璃器皿、手术器械、牙科手机、电路板等物品的内外表面附着物进行清洗、消毒和干燥处理。
等离子清洗机
等离子清洗机VP-R3真空腔体石英玻璃材质,频率13.56MHz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行30分钟,腔体温度不高于32℃,不损伤样品,适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
恒温数控超声波清洗器
超声波发生源与清洗槽为一体的双频恒温数控超声波清洗器,国际先进、国内首创。突破了几十年来的超声液温根据超声时间长短、功率大小、密封程度来决定升温快慢,
68KHz高频率超声波电源
频率:从20KHZ—400KHZ之内可选,功率:从600W---6000W可选(一个电箱),6000W--20000W需定做。 .性能特点: 1.输入电压:180—265V AC 2.转换效率:93(min). 3.工作温度:-20摄